[发明专利]多位准存储单元的操作方法有效
申请号: | 200610170343.8 | 申请日: | 2006-12-29 |
公开(公告)号: | CN101211927A | 公开(公告)日: | 2008-07-02 |
发明(设计)人: | 郭明昌;吴昭谊 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L29/792;G11C16/02;G11C16/14 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种多位准存储单元的操作方法,其中多位准存储单元包括第一导电型基底、控制栅、电荷储存层及二第二导电型源/漏极区。此操作方法包括将第一型电荷注入电荷储存层的抹除步骤,以及程序化步骤。此程序化步骤包括在基底上施加第一电压,在二源/漏极区上施加第二电压,并在控制栅上施加第三电压。其中,第一第二电压的差足以在基底中产生频带穿隧热电洞,且第三电压可使第二型电荷注入电荷储存层中。此第三电压可有2n-1(n≥2)种,以将该多位准存储单元程序化至2n-1个储存态中的一预定储存态。 | ||
搜索关键词: | 多位准 存储 单元 操作方法 | ||
【主权项】:
1.一种多位准存储单元的操作方法,该多位准存储单元包括一第一导电型基底、一控制栅、该基底与该控制栅之间的一电荷储存层,以及该基底中的二第二导电型源/漏极区,该操作方法包括将第一型电荷注入该电荷储存层中的一抹除步骤,以及一程序化步骤,其中该程序化步骤是利用双边偏压-频带穿隧热电洞效应来进行,其特征在于,包括:在该基底上施加一第一电压,在该二源/漏极区上施加一第二电压,且在该控制栅上施加一第三电压,其中该第一电压与该第二电压的差足以在该基底中产生频带穿隧热电洞,且该第三电压可使第二型电荷注入该电荷储存层中,该第三电压可有2n-1(n≥2)种,以将该多位准存储单元程序化至2n-1个储存态中的一预定储存态。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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