[发明专利]一种高亮度固态发光组件的制造方法及发光组件无效

专利信息
申请号: 200610166001.9 申请日: 2006-12-31
公开(公告)号: CN101212004A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: 余其俊 申请(专利权)人: 东莞高辉光电科技有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 深圳市凯达知识产权事务所 代理人: 刘大弯
地址: 523270广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种高亮度固态发光组件的制造方法,包括如下步骤:(1)在基板上形成一可以产生光的发光单元;(2)在该基板外表面以透明材料披覆形成一透明粗化单元;(3)制备一选择性蚀刻药水,并将透明粗化单元浸入所述药水中;(4)以等离子束轰击所述透明粗化单元的外表面,使该外表面上形成凹凸;(5)在透明粗化层的上方预定位置形成与p型批覆层形成奥姆接触的p型电极;(6)在n型批覆层的上方预定位置形成与n型批覆层形成奥姆接触的n型电极。本发明还公开了一种采用前述方法制造的发光组件,其包括:一绝缘基板;一设置在该基板上的发光单元;一外表明呈凹凸状的透明粗化单元;其产生的折射效果更好,对外发光效率更高。
搜索关键词: 一种 亮度 固态 发光 组件 制造 方法
【主权项】:
1.一种高亮度固态发光组件的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)在基板上形成一可以产生光的发光单元,该发光单元包含以磊晶层叠方式形成的磊晶结构层体;(2)在该基板的磊晶结构层体外表面的局部或全部,以透明材料披覆形成一透明粗化单元;(3)制备一可与所述透明粗化单元材料进行化学反应、溶解其中部分组分的选择性蚀刻药水,并将所述基板上的透明粗化单元完全浸入所述药水中,持续10秒钟以上后取出;(4)以等离子束轰击所述透明粗化单元的外表面,并持续30秒钟以上,使该外表面上形成深度为0.1~0.4μm的凹凸;(5)在透明粗化层的上方预定位置形成与p型批覆层形成奥姆接触的p型电极;(6)在n型批覆层的上方预定位置形成与n型批覆层形成奥姆接触的n型电极。
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