[发明专利]栅控二极管非易失性存储器单元的操作方法有效
申请号: | 200610164074.4 | 申请日: | 2006-12-06 |
公开(公告)号: | CN101005078A | 公开(公告)日: | 2007-07-25 |
发明(设计)人: | 廖意瑛;蔡文哲;叶致锴 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;G11C16/02 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 林锦辉 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种具有电荷储存结构的栅控二极管非易失性存储器单元,包含具有额外栅极端的二极管结构。实例的实施例包含独立的存储器单元、此类存储器单元的阵列、操作此存储器单元或存储器单元的阵列的方法及其制造方法。 | ||
搜索关键词: | 二极管 非易失性存储器 单元 操作方法 | ||
【主权项】:
1、一种操作非易失性存储器器件集成电路的方法,所述非易失性存储器器件包含:电荷储存结构,一个或多个储存介电结构,其至少一部分介于所述电荷储存结构与二极管结构之间,且至少一部分介于所述电荷储存结构与栅极电压源之间,所述二极管结构具有以结所分隔的第一节点及第二节点,所述方法包含:提供第一偏压安排以决定所述电荷储存结构的电荷储存状态,其中,所述二极管结构的所述第一节点及所述第二节点至少一部分与所述一个或多个储存介电结构相邻,且所述二极管结构具有所述第二节点的相对端以绝缘介电层与邻近器件分隔的剖面;以及测量流经反向偏压时所述二极管结构的电流,以决定所述电荷储存结构的所述电荷储存状态。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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