[发明专利]一种可提高缺陷检验可靠性的方法有效
| 申请号： | 200610148090.4 | 申请日： | 2006-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN101210932A | 公开（公告）日： | 2008-07-02 |
| 发明（设计）人： | 田明静 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G01N35/00 | 分类号： | G01N35/00;H01L21/66;G01R31/28 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种可提高缺陷检验可靠性的方法。现有的掩膜检验机台上仅有少数几种缺陷检验设定，其很难适合具有多样图形的掩膜，故难以确保每一经该检验机台检验的掩膜上的缺陷均被发现。本发明的方法首先在每一进行缺陷检验的掩膜的非图形区域上制作一标准缺陷单元；接着存储该标准缺陷单元对应的基准图形及基本缺陷捕获图形；然后在该检验机台上检验该掩膜且测得该标准缺陷单元的图形；之后将所测得的标准缺陷单元的图形与其基准图形进行对比来得到该标准缺陷单元的实际缺陷捕获图形；最后判断该实际缺陷捕获图形是否完全包括该基本缺陷捕获图形并依据判断结果决定是否继续进行缺陷检验。采用本发明的所提供的方法能提高缺陷检验的可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提高 缺陷 检验 可靠性 方法 | ||
【主权项】：
1.一种可提高缺陷检验可靠性的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：a.在每一进行缺陷检验的掩膜的非图形区域上制作一标准缺陷单元；b.存储该标准缺陷单元对应的基准图形及基本缺陷捕获图形；c.将该掩膜设置在检验机台上进行缺陷检验并测得该标准缺陷单元的图形；d.将所测得的标准缺陷单元的图形与其基准图形进行对比来得到该标准缺陷单元的实际缺陷捕获图形；e.判断该实际缺陷捕获图形是否完全包括该基本缺陷捕获图形并依据判断结果决定是否继续进行缺陷检验。
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