[发明专利]一种可提高缺陷检验可靠性的方法有效
| 申请号： | 200610148090.4 | 申请日： | 2006-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN101210932A | 公开（公告）日： | 2008-07-02 |
| 发明（设计）人： | 田明静 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G01N35/00 | 分类号： | G01N35/00;H01L21/66;G01R31/28 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 2012*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 缺陷 检验 可靠性 方法 | ||
1.一种可提高缺陷检验可靠性的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
a.在每一进行缺陷检验的掩膜的非图形区域上制作一标准缺陷单元；
b.存储该标准缺陷单元对应的基准图形及基本缺陷捕获图形；
c.将该掩膜设置在检验机台上进行缺陷检验并测得该标准缺陷单元的图形；
d.将所测得的标准缺陷单元的图形与其基准图形进行对比来得到该标准缺陷单元的实际缺陷捕获图形；
e.判断该实际缺陷捕获图形是否完全包括该基本缺陷捕获图形并依据判断结果决定是否继续进行缺陷检验。
2.如权利要求1所述的可提高缺陷检验可靠性的方法，其特征在于：该方法的步骤e中如果判断结果为是则继续进行掩膜上其他区域的缺陷检验，如果判断结果为否则停止缺陷检验并依据实际缺陷捕获图形调节检验机台直至实际缺陷捕获图形完全包括该标准缺陷捕获图形。
3.如权利要求1所述的可提高缺陷检验可靠性的方法，其特征在于：该标准缺陷单元的图形与掩膜主图形具相同的设计规则。
4.如权利要求1所述的可提高缺陷检验可靠性的方法，其特征在于，该标准缺陷单元的缺陷尺寸为从左至右单调递变。
5.如权利要求1所述的可提高缺陷检验可靠性的方法，其特征在于，该标准缺陷单元每一行代表一种缺陷类型。
6.一种可提高缺陷检验可靠性的方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
a.在每一进行缺陷检验的掩膜的非图形区域上制作一标准缺陷单元及一对应的基准图形单元；
b.存储该标准缺陷单元对应的基本缺陷捕获图形；
c.将该掩膜设置在检验机台上进行缺陷检验并测得该标准缺陷单元及该基准图形单元的图形；
d.将所测得的标准缺陷单元及该基准图形单元的图形进行对比来得到该标准缺陷单元的实际缺陷捕获图形；
e.判断实际缺陷捕获图形是否完全包括其基本缺陷捕获图形并依据判断结果决定是否继续进行缺陷检验。
7.如权利要求6所述的可提高缺陷检验可靠性的方法，其特征在于：该方法的步骤e中如果判断结果为是则继续进行掩膜上其他区域的缺陷检验，如果判断结果为否则停止缺陷检验并依据实际缺陷捕获图形调节检验机台直至实际缺陷捕获图形完全包括该标准缺陷捕获图形。
8.如权利要求6所述的可提高缺陷检验可靠性的方法，其特征在于：该标准缺陷单元的特征图形与掩膜主图形具相同的设计规则。
9.如权利要求6所述的可提高缺陷检验可靠性的方法，其特征在于，该标准缺陷单元中的缺陷尺寸为从左至右单调递变。
10.如权利要求6所述的可提高缺陷检验可靠性的方法，其特征在于，该标准缺陷单元每一行代表一种缺陷类型。
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