[发明专利]TFT基板及其制造方法以及用于制造TFT基板的掩模有效
申请号: | 200610139729.2 | 申请日: | 2006-09-22 |
公开(公告)号: | CN101013705A | 公开(公告)日: | 2007-08-08 |
发明(设计)人: | 林都基;李钟焕;李洪雨;金容照;李庸羽 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/84;G03F1/14 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 李伟 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种薄膜晶体管基板,制造该薄膜晶体管基板的方法,以及用于制造薄膜晶体管基板的掩模,其中,使薄膜晶体管(TFT)的源电极和漏电极之间的电子移动面积最小,增大电子移动的距离,并且使由栅电极分别与源电极和漏电极一起限定的电容器的大小彼此相等,所以可以使当TFT截止时所产生的截止电流最小化。因此,可以使由于光的电子陷落现象所感应的截止电流最小化。 | ||
搜索关键词: | tft 及其 制造 方法 以及 用于 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管基板,其包括:多条栅极线;多条源极线,与所述栅极线交叉;多个像素电极,分别设置在由所述多条栅极线和所述多条源极线限定的多个像素区中;以及多个薄膜晶体管,分别设置在所述多个像素区中,所述多个薄膜晶体管的每一个均包括连接至所述多条栅极线之一的栅电极、连接至所述多条源极线之一的源电极、以及连接至所述多个像素电极之一的漏电极,其中,在设置在所述多个薄膜晶体管每一个的所述源电极和所述漏电极之间的沟道区中露出有源层,并且所述有源层突出到所述沟道区之外,突出长度相当于所述源极线宽度的30%或更小。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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