[发明专利]锰酸镧系负温度系数半导体陶瓷及其制备方法无效
申请号: | 200610130271.4 | 申请日: | 2006-12-15 |
公开(公告)号: | CN1974476A | 公开(公告)日: | 2007-06-06 |
发明(设计)人: | 马卫兵;孙凤云;孙清池 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
主分类号: | C04B35/36 | 分类号: | C04B35/36;C04B35/50;C04B35/622 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 | 代理人: | 曹玉平 |
地址: | 300072*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明公开了一种锰酸镧系负温度系数半导体陶瓷及其制备方法,其组分和含量为LaMnO3基础上添加10-70mol%TiO2,同时添加0-60mol%的Cu、Ba、Cr、Sr和Y元素之一。制备步骤包括(1)配料,(2)造粒,(3)成型,(4)烧成,(5)电极制备。本发明克服了NTCR陶瓷材料室温电阻较大的缺点,提供了一种具有良好的导电性能和高温稳定性、实现了室温电阻率为182Ω.cm,而温度系数B值为3268K的锰酸镧为基的钙钛矿型NTCR半导体陶瓷。本发明在温度测量、抑制浪涌电流和温度补偿方面得到广泛应用。 | ||
搜索关键词: | 锰酸镧系负 温度 系数 半导体 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种锰酸镧系负温度系数半导体陶瓷,其特征在于,其组分和含量为:在LaMnO3基础上掺杂10-70mol%TiO2及0-60mol%的Cu、Ba、Cr、Sr和Y元素之一。
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