[发明专利]提高GaN基肖特基结构性能的紫外探测器及制作方法无效

专利信息
申请号: 200610111262.0 申请日: 2006-08-17
公开(公告)号: CN101101935A 公开(公告)日: 2008-01-09
发明(设计)人: 赵德刚;杨辉;梁骏吾;李向阳;龚海梅 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L31/108 分类号: H01L31/108;H01L31/0224;H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汤保平
地址: 100083北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种提高GaN基肖特基结构性能的紫外探测器,其特征在于,器件结构包括:一衬底;一成核层,该成核层制作在衬底上;一高浓度的N型欧姆接触层,该N型欧姆接触层制作在成核层上;一有源层,该有源层制作在N型欧姆接触层上面的中间;一肖特基接触电极,该肖特基接触电极制作在有源层上;一欧姆接触电极,该欧姆接触电极为点状结构或环形结构,制作在欧姆接触层上面的两侧。
搜索关键词: 提高 gan 基肖特基 结构 性能 紫外 探测器 制作方法
【主权项】:
1、一种提高GaN基肖特基结构性能的紫外探测器,其特征在于,器件结构包括:一衬底;一成核层,该成核层制作在衬底上;一高浓度的N型欧姆接触层,该N型欧姆接触层制作在成核层上;一有源层,该有源层制作在N型欧姆接触层上面的中间;一肖特基接触电极,该肖特基接触电极制作在有源层上;一欧姆接触电极,该欧姆接触电极为点状结构或环形结构,制作在欧姆接触层上面的两侧。
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