[发明专利]光敏组合物和用该光敏组合物形成的滤色器有效

专利信息
申请号: 200610080918.7 申请日: 2006-05-22
公开(公告)号: CN1869816A 公开(公告)日: 2006-11-29
发明(设计)人: 近藤满;信太胜;大西启之;内河喜代司 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: G03F7/075 分类号: G03F7/075;G02F1/1335;G02B5/23
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明涉及一种能形成高密合性的高品质黑色矩阵和/或着色层的光敏组合物,以及用该光敏组合物形成的滤色器。该光敏组合物为含有(a)着色剂、(b)光聚合性化合物、(c)光聚合引发剂和(d)密合增强剂的含着色剂光敏组合物,上述(d)密合增强剂为具有含氮基的硅烷化合物,与该氮结合的氢在1个以下。
搜索关键词: 光敏 组合 形成 滤色器
【主权项】:
1.一种光敏组合物,其为含有(a)着色剂、(b)光聚合性化合物、(c)光聚合引发剂以及(d)密合增强剂的含着色剂光敏组合物,其中,所述(d)密合增强剂为具有含氮基的硅烷化合物,与该氮结合的氢在1个以下。
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