[发明专利]使用超薄金属氧化物栅极介电层的有机薄膜晶体管及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610066752.3 申请日: 2006-04-11
公开(公告)号: CN101017881A 公开(公告)日: 2007-08-15
发明(设计)人: 宋政根;金强大;柳基成;许泳宪;金光贤;李明源 申请(专利权)人: 梁在宇
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/40
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙皓晨;费碧华
地址: 韩国大*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供一种低电压有机薄膜晶体管,以O2等离子体工艺,将超薄金属氧化物的栅极介电层自我形成于栅电极上。该金属栅电极沉积于塑料或玻璃基板上。使用O2等离子体工艺氧化该栅电极,使金属氧化物的栅极介电层直接形成于该栅电极上,其厚度仅为数纳米。随后有机半导体层沉积于该栅极介电层上,而源电极/漏电极形成于该有机半导体层上。于形成该有机半导体层之前,可使用分子自我组合技术形成有机单分子层于该栅极介电层上。该栅极介电层可于室温至约100℃温度下形成。
搜索关键词: 使用 超薄 金属 氧化物 栅极 介电层 有机 薄膜晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种有机薄膜晶体管,其特征在于,其包含:一基板;一栅电极形成于该基板上,其中该栅电极是由可氧化的金属制成;一超薄栅极介电层形成于该栅电极上,其中该栅极介电层是由O2等离子体工艺自我形成于栅电极上的金属氧化物制成;一有机半导体层形成于该栅极介电层上;而源电极/漏电极形成于该有机半导体层上,其中该源电极/漏电极互相间隔开。
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