[发明专利]修正光学近距效应的图形分割方法有效
| 申请号： | 200610024872.7 | 申请日： | 2006-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN101042528A | 公开（公告）日： | 2007-09-26 |
| 发明（设计）人： | 洪齐元;刘庆炜 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F1/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种修正光学近距效应的图形分割方法，包括：a.确定禁止间距的范围；b.在图形对角线的交叉区域布置亚衍射极限辅助散射条。本发明有利于提高图形分辨率和焦深(DOF)，并降低掩膜误差放大因子(MEEF)使得光学近距效应得到较好的修正。 | ||
| 搜索关键词： | 修正 光学 近距 效应 图形 分割 方法 | ||
【主权项】：
1、一种修正光学近距效应的图形分割方法，包括：a确定禁止间距的范围；b在图形对角线的交叉区域布置亚衍射极限辅助散射条。
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