[发明专利]一种二阶非线性光学晶体材料及其合成方法和用途无效
| 申请号： | 200610019266.6 | 申请日： | 2006-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN1888147A | 公开（公告）日： | 2007-01-03 |
| 发明（设计）人： | 苏旭;秦金贵;张刚;蒋世超;刘涛;陈创天;吴以成 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | C30B29/12 | 分类号： | C30B29/12 |
| 代理公司： | 武汉天力专利事务所 | 代理人： | 程祥;冯卫平 |
| 地址： | 43007*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种二阶非线性光学晶体材料，其分子式为KLiBeF4，晶体空间群为P63。本发明还提供了上述二阶非线性光学晶体材料的制备方法，将氢氧化锂、氢氧化钾、氟化铍和氟氢酸铵置入反应器中，加入蒸馏水，搅拌下加入氢氟酸，调节pH值至5－7；密封，加热到140～160摄氏度，并保持恒温20小时以上；降至室温，过滤，得到无色透明的晶体；所得晶体用蒸馏水洗涤，真空干燥，得到二阶非线性光学晶体。本发明二阶非线性光学晶体材料在深紫外、可见光区和红外光区有很大的透光窗口，有较大的二阶非线性光学系数，具有优良的热稳定性；合成方法具有操作简单，可以直接获得单晶等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 非线性 光学 晶体 材料 及其 合成 方法 用途 | ||
【主权项】：
1.一种二阶非线性光学晶体材料，其分子式为KLiBeF4，晶体空间群为P63。
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