[发明专利]溅射蚀刻金属层所用窗口保护器无效
申请号: | 200580045268.6 | 申请日: | 2005-12-22 |
公开(公告)号: | CN101094938A | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
发明(设计)人: | 亚瑟·M·霍华德;倪图强 | 申请(专利权)人: | 拉姆研究公司 |
主分类号: | C23F1/00 | 分类号: | C23F1/00;H01L21/3065;C23C16/505 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李辉;吕俊刚 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明提供了一种溅射蚀刻金属层所用窗口保护器。感应耦合等离子体处理设备包括具有顶开口的腔室(100)。窗口(16)密封了腔室的顶开口,而且该窗口具有暴露于腔室的内部区域的内表面。腔室内布置有用于保护窗口的内表面的窗口保护器(20)。窗口保护器(20)被构造用于防止导电蚀刻副产物以连续环的形式沉积在窗口的内表面上。在一个可选实施方式中,窗口的内表面上附接有多个窗口保护器(20’)。在另一实施方式中,窗口内形成有多个T形或鸠尾形槽。在另一实施方式中,窗口内形成有多个矩形槽,并且抵靠着窗口的内表面安装有具有相应槽的窗口保护器。 | ||
搜索关键词: | 溅射 蚀刻 金属 所用 窗口 保护 | ||
【主权项】:
1、一种感应耦合等离子体处理设备,该感应耦合等离子体处理设备包括:具有顶开口的腔室;用于密封所述腔室的所述顶开口的窗口,该窗口具有暴露于所述腔室的内部区域的内表面;以及布置在所述腔室内用于保护所述窗口的所述内表面的窗口保护器,该窗口保护器被构造用于防止导电蚀刻副产物以连续环的形式沉积在所述窗口的所述内表面上。
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