[发明专利]光伏衬底沉积中的压力控制系统无效
申请号: | 200580043391.4 | 申请日: | 2005-11-10 |
公开(公告)号: | CN101233260A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | 约翰·R·塔特尔 | 申请(专利权)人: | 德斯塔尔科技公司 |
主分类号: | C23C16/00 | 分类号: | C23C16/00 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 王允方;刘国伟 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明包括一种用于将薄层沉积在衬底上以用于生产光伏电池的设备,其中通过低压隔离区域使个别反应室彼此分离,所述低压隔离区域防止相邻反应室的交叉污染,并控制每一反应室中的压力水平,同时允许在没有任何机械障碍的情况下将衬底从一个反应室不间断地转移到下一反应室。 | ||
搜索关键词: | 衬底 沉积 中的 压力 控制系统 | ||
【主权项】:
1.一种用于生产光伏装置的设备,其包括:a.至少一个差分抽吸构件,其提供与至少一个反应室连通的一个或一个以上真空隔离区域;和b.所述反应室含有用于控制纯气体到所述反应室的流量的机构。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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