[发明专利]带有隐埋耗尽层的有源光敏结构无效

专利信息
申请号: 200580036364.4 申请日: 2005-08-30
公开(公告)号: CN101048870A 公开(公告)日: 2007-10-03
发明(设计)人: D·耶尔代夫;N·哈利乌林 申请(专利权)人: 微米技术有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L31/112
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 曾祥夌;刘红
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种成像器像素具有光敏JFET结构,该结构的沟道区位于隐埋的电荷累积区上方。该沟道区具有依赖于累积区中所累积的电荷电平而变化的电阻特性。在积分期期间,入射光使电子累积在隐埋的累积区内部。沟道区的电阻特性响应于累积在累积区中的电荷形成的场而变化。因而,当电压施加到沟道的一侧时,从另一侧读出的电流表征了存储的电荷量。
搜索关键词: 带有 耗尽 有源 光敏 结构
【主权项】:
1.一种JFET光传感器,包括:在衬底中形成的累积区,所述累积区用于累积响应射到所述区的光而产生的电荷;以及位于所述衬底中并与所述累积区相关联的沟道区,所述沟道区具有响应累积在所述累积区中的电荷而变化的电阻。
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