[发明专利]带有隐埋耗尽层的有源光敏结构无效
申请号: | 200580036364.4 | 申请日: | 2005-08-30 |
公开(公告)号: | CN101048870A | 公开(公告)日: | 2007-10-03 |
发明(设计)人: | D·耶尔代夫;N·哈利乌林 | 申请(专利权)人: | 微米技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L31/112 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曾祥夌;刘红 |
地址: | 美国爱*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种成像器像素具有光敏JFET结构,该结构的沟道区位于隐埋的电荷累积区上方。该沟道区具有依赖于累积区中所累积的电荷电平而变化的电阻特性。在积分期期间,入射光使电子累积在隐埋的累积区内部。沟道区的电阻特性响应于累积在累积区中的电荷形成的场而变化。因而,当电压施加到沟道的一侧时,从另一侧读出的电流表征了存储的电荷量。 | ||
搜索关键词: | 带有 耗尽 有源 光敏 结构 | ||
【主权项】:
1.一种JFET光传感器,包括:在衬底中形成的累积区,所述累积区用于累积响应射到所述区的光而产生的电荷;以及位于所述衬底中并与所述累积区相关联的沟道区,所述沟道区具有响应累积在所述累积区中的电荷而变化的电阻。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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