[发明专利]母盘衬底和制作高密度浮雕结构的方法无效
申请号: | 200580035779.X | 申请日: | 2005-10-12 |
公开(公告)号: | CN101044565A | 公开(公告)日: | 2007-09-26 |
发明(设计)人: | E·R·迈因德斯;R·A·洛克 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
主分类号: | G11B7/26 | 分类号: | G11B7/26;G11B7/243 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 张雪梅;刘红 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种用于光学记录的母盘衬底,包括:衬底层(26)、位于衬底层(26)上方的第一记录层(12)和第二记录层(16)以及在第一记录层(12)和第二记录层(16)之间的中间层(14),记录层(12、16)包括相变材料,由于在记录层上投射了光所引起的相变从而可以改变与该材料的化学剂有关的特性。本发明还涉及一种制作高密度浮雕结构的方法。 | ||
搜索关键词: | 母盘 衬底 制作 高密度 浮雕 结构 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于光记录的母盘衬底,包括衬底层(26),位于衬底层(26)上方的第一记录层(12)和第二记录层(16),以及位于第一记录层(12)和第二记录层(16)之间的中间层(14),该记录层(12、16)包括相变材料,由于在记录层上投射了光所引起的相变从而可以改变与该材料的化学剂有关的特性。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦电子股份有限公司,未经皇家飞利浦电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200580035779.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。