[发明专利]曝光用基板、曝光方法及元件制造方法无效
| 申请号： | 200580030201.5 | 申请日： | 2005-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN101015039A | 公开（公告）日： | 2007-08-08 |
| 发明（设计）人： | 水谷刚之 | 申请（专利权）人： | 尼康股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/027 | 分类号： | H01L21/027;H01L21/02;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 杨俊波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种曝光用基板，可防止在装载于基板保持具时与基板保持具产生干涉，且能防止在装载后液体渗入其背面侧。所述基板(P)是透过液体照射曝光用光来曝光的曝光用基板，其外径(LP)的尺寸公差(DP)在±0.02mm以下。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 用基板 方法 元件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种曝光用基板，透过液体照射曝光用光来曝光，其特征在于：其外径的尺寸公差在±0.02mm以下。
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