[发明专利]曝光装置、动作决定方法、基板处理系统及维护管理方法、以及组件制造方法无效
| 申请号： | 200580026944.5 | 申请日： | 2005-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN101002301A | 公开（公告）日： | 2007-07-18 |
| 发明（设计）人： | 白田阳介 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | H01L21/027 | 分类号： | H01L21/027;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种曝光装置、动作决定方法、基板处理系统及维护管理方法、以及组件制造方法。由于具备可根据来自C/D之与维护相关之信息决定装置自身动作的主控制装置(120)，因此，主控制装置(120)，当在C/D之维护中、亦即曝光装置原本之运转必然会停止时，能决定和此并行之方式，进行为了维持装置自身性能所必须的动作、且为须使装置原本之动作停止的特定动作。其结果，可减少进行该特定动作所必须之曝光装置整体的停机时间，由此可避免以线内方式连接于基板处理装置之曝光装置的装置性能降低，提升运转率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 动作 决定 方法 处理 系统 维护 管理 以及 组件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，以线内方式连接于基板处理装置，其特征在于：具备动作决定装置，根据来自所述基板处理装置的与维护相关的信息，决定装置自身的动作。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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