[发明专利]曝光装置无效

专利信息
申请号: 200580019656.7 申请日: 2005-06-16
公开(公告)号: CN101002143A 公开(公告)日: 2007-07-18
发明(设计)人: 大见忠弘;武久究;森山司郎;佐佐木俊一;广濑正孝;石井守;菅谷智幸;片冈昌子;梅津基宏 申请(专利权)人: 东北大学;日本陶瓷科技股份有限公司;太平洋水泥株式会社
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/027;H01L21/68
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种对扭转振动的阻力及共振频率高的架构件。能够得到架构件及包括该架构件的曝光装置,所述架构件具有蜂窝结构体,所述蜂窝结构体具备方形柱状的空隙部,且配置为构成该空隙部的壁与扭转变形的方向垂直。架构件的蜂窝结构体优选由陶瓷构成。
搜索关键词: 曝光 装置
【主权项】:
1.一种曝光装置,其为了将掩模上的图案转印于衬底上进行曝光,而通过由陶瓷构成的架构件使所述掩模、所述衬底中的至少一方移动的同时进行曝光,其特征在于,所述架构件包括:由陶瓷形成的板构件;蜂窝结构体,其由陶瓷形成且以其开口面与所述板构件接合;接合部,其接合所述板构件和所述蜂窝结构体,且由熔融温度比构成所述板构件及所述蜂窝结构体的所述陶瓷低的陶瓷形成,该蜂窝结构体的空隙部由方形柱形状构成,空隙部的壁配置在与该架构件的长度方向垂直的方向上。
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