[发明专利]膨胀式热等离子沉积系统

摘要

涂覆基材的系统包括维持在负压下的淀积室、一个或多个包含两个或多个与所述淀积室连接的膨胀式热等离子源(14)的阵列、和包含用于每个阵列的孔(15)的至少一个注射器(13)。所述基材设置在所述淀积室中并且每个膨胀式热等离子源产生具有中心轴的等离子流，同时所述注射器将蒸发的试剂注射到所述等离子中以形成沉积在所述基材上的涂层。所述注射器孔位于规定的与所述膨胀式热等离子源的距离内以总体上获得具有大体上均匀涂层性能的涂层。

主权项

1.涂覆基材的方法，包括：由两个或多个ETP源产生等离子，每个ETP源包括阳极；和将蒸发反应试剂注射到该等离子中以在基材上形成涂层，该反应试剂的注射位于距该ETP源的阳极孔规定的距离内以使在该基材上获得一种或多种均匀的涂层性能。