[发明专利]溅射靶及其制造方法无效
| 申请号： | 200580001008.9 | 申请日： | 2005-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN1842613A | 公开（公告）日： | 2006-10-04 |
| 发明（设计）人： | 尾野直纪 | 申请（专利权）人： | 三井金属矿业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张天安 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是通过溅射制造薄膜时所使用的溅射靶及其制造方法，由靶板、底板、将它们贴合在一起的粘合材料层构成，粘合材料层中不存在有衬垫，粘合材料层的厚度在0.25～2mm的范围内，并且，靶板的贴合面与底板的贴合面二者实质上保持平行。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶，其特征是，由靶板、底板、将它们贴合在一起的粘合材料层构成，粘合材料层中不存在衬垫，粘合材料层的厚度在0.25～2mm的范围内，并且，靶板的贴合面与底板的贴合面二者实质上保持平行。
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