[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法无效

专利信息
申请号: 200510125092.7 申请日: 2005-11-18
公开(公告)号: CN1794430A 公开(公告)日: 2006-06-28
发明(设计)人: 泉昭;佐野谦一 申请(专利权)人: 大日本网目版制造株式会社
主分类号: H01L21/302 分类号: H01L21/302
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人: 高龙鑫;王玉双
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种基板处理装置和方法,可以在抑制损坏基板的同时对基板进行均匀的处理。与由多个卡盘销保持的基板对向而配置遮断板,通过从处理液喷嘴向基板表面和遮断板的对置面所夹持的空间中供给处理液,形成处理液的液密状态。并且,保持形成处理液的液密状态原样,使基板和遮断板旋转。在此状态,从超声波喷嘴对遮断板的对置面大致垂直地喷射传播了超声波振动的液体(纯水)。超声波振动在遮断板的内部向水平方向扩展,其中一部分的振动波从遮断板的对置面向液密状态的处理液扩展大范围并均匀地传递,使该处理液振动。为此,对基板表面振动能量不集中,可以在抑制基板损坏的同时对基板均匀处理。
搜索关键词: 处理 装置 以及 方法
【主权项】:
1.一种基板处理装置,其特征在于,包括:基板保持装置,其将基板以大致水平姿势保持;振动构件,其由能够传播超声波振动的材料形成,同时,具有能够和由上述基板保持装置保持的基板的被处理面相对向的对置面,该对置面与上述被处理面分离开并相对向;处理液供给装置,其通过向上述基板的被处理面和上述振动构件的对置面所夹持的空间中供给处理液,从而在该空间中将上述处理液积存为液密状态;超声波赋予装置,其使传播了超声波振动的液体碰撞到上述振动构件的对置面之外的非对置面上。
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