[发明专利]利用微机电系统制造集成电路的可重构掩模的方法和器件无效
| 申请号： | 200510110313.3 | 申请日： | 2005-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN1963672A | 公开（公告）日： | 2007-05-16 |
| 发明（设计）人： | 邱慈云 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/08;G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 陈红 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用镜器件阵列照射目标物以对位于目标物之上的光敏材料进行选择性图案化的方法。该方法包括将利用泛光光束的电磁辐射施加到镜器件阵列上。所述镜器件中的每一个与待要曝光到光敏材料上的图案的像素相关联。该方法还包括选择性地致动所述阵列上的一个或多个镜，以将光束中的相应部分偏转到光敏材料的相应部分上，来对目标物上的光敏材料的所述部分进行曝光。该方法使一个或多个其他的镜保持在选定的位置，以使所述光敏材料的相应其他部分保持不被曝光。优选地，曝光的部分和未曝光的部分形成被曝光到光敏材料上的图案。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 微机 系统 制造 集成电路 可重构掩模 方法 器件 | ||
【主权项】：
1.一种利用镜器件阵列照射目标物以对位于所述目标物之上的光敏材料进行选择性图案化的方法，所述方法包括：将利用泛光光束的电磁辐射施加到一个镜器件阵列上，所述镜器件中的每一个与待要曝光到所述光敏材料上的图案的像素相关联；选择性地致动所述阵列上的一个或多个镜，以将光束中的相应部分偏转到所述光敏材料的相应部分上，来对所述目标物上的所述光敏材料的所述部分进行曝光；以及使一个或多个其他的镜保持在一个或多个选定的位置，以使所述光敏材料的相应其他部分保持不被曝光。
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