[发明专利]存储器无效
申请号: | 200510104807.0 | 申请日: | 2005-09-19 |
公开(公告)号: | CN1877840A | 公开(公告)日: | 2006-12-13 |
发明(设计)人: | 山田光一 | 申请(专利权)人: | 三洋电机株式会社 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种可减小存储器单元大小的存储器。在该存储器中,第一选择晶体管的第一栅极电极和第二选择晶体管的第二栅极电极与字线一体化设置,并且,俯视看,在相对存储器单元的形成区域上第一杂质的延伸方向倾斜的方向上延伸的同时,与第一选择晶体管及第二选择晶体管的形成区域上第一杂质区域交叉地配置。 | ||
搜索关键词: | 存储器 | ||
【主权项】:
1.一种存储器,其特征在于,具备:包含矩阵状配置的存储器单元的存储器单元阵列区域;设置在多个所述存储器单元的每一个上的第一选择晶体管及第二选择晶体管;起构成所述存储器单元一部分的电极的作用,并且起所述第一选择晶体管及所述第二晶体管的源/漏极区域的一方的作用的第一杂质区域;起所述第一选择晶体管及所述第二选择晶体管的源/漏极区域的另一方作用的第二杂质区域;以及在所述存储器单元阵列区域上沿所述第一杂质区域设置的字线,所述第一选择晶体管和所述第二选择晶体管共享所述第二杂质区域,所述第一选择晶体管的第一栅极电极和所述第二选择晶体管的第二栅极电极与所述字线一体化设置,并且,俯视看,在相对所述存储器单元的形成区域上所述第一杂质的延伸方向倾斜的方向上延伸的同时,与所述第一选择晶体管及所述第二选择晶体管的形成区域的所述第一杂质区域交叉地配置,通过所述第一选择晶体管和所述第二选择晶体管分割所述第一杂质区域。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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