[发明专利]干涉式调制器及其制作方法无效
| 申请号： | 200510102598.6 | 申请日： | 2005-09-12 |
| 公开（公告）号： | CN1755418A | 公开（公告）日： | 2006-04-05 |
| 发明（设计）人： | 克拉伦斯·徐;马尼什·科塔里;布莱恩·詹姆斯·加利;董明孝 | 申请（专利权）人： | IDC公司 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王允方 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 通过在一牺牲层与一镜层之间使用一蚀刻终止层来改良例如干涉式调制器等MEMS装置的制作。所述蚀刻终止层可减轻对牺牲层及镜层的不良过蚀刻。所述蚀刻终止层还可用作一障蔽层、缓冲层及/或模板层。 | ||
| 搜索关键词： | 干涉 调制器 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
1、一种未释放的干涉式调制器，其包括：一牺牲层；一位于所述牺牲层上的金属镜层；及一位于所述牺牲层与所述金属镜层之间的均匀层。
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