[发明专利]正性抗蚀剂组合物与抗蚀剂图案形成方法无效
申请号: | 200510070085.1 | 申请日: | 2005-05-09 |
公开(公告)号: | CN1696831A | 公开(公告)日: | 2005-11-16 |
发明(设计)人: | 米村幸治;中绪卓 | 申请(专利权)人: | 东京应化工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 陈长会 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种正性抗蚀剂组合物,它包括:其碱溶性通过酸的作用而改变的树脂组分(A)、酸生成剂组分(B)、和聚丙二醇,其中所述组分(A)包括含有由通式(I)表示的构成单元(a1)、由通式(II)表示的构成单元(a2)和具有酸解离溶解抑制基团的构成单元(a3)的树脂组分(A1),其中R表示氢原子或甲基,而m表示1~3的整数,其中R表示氢原子或甲基,R1表示具有1~5个碳原子的烷基,而l表示0~3的整数。 | ||
搜索关键词: | 正性抗蚀剂 组合 抗蚀剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种正性抗蚀剂组合物,它包括:树脂组合物(A),其碱溶性通过酸的作用而改变;酸生成剂组分(B);和聚丙二醇,其中所述组分(A)包括含有由通式(I)表示的构成单元(a1)、由通式(II)表示的构成单元(a2)和具有酸解离溶解抑制基团的构成单元(a3)的树脂组分(A1),
其中R表示氢原子或甲基,而m表示1~3的整数,
其中R表示氢原子或甲基,R1表示具有1~5个碳原子的烷基,而1表示0~3的整数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社,未经东京应化工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200510070085.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:羊梭菌病疫苗生产用厌氧产毒培养基
- 下一篇:氯化嘧啶的合成