[发明专利]NOR型快闪记忆体及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200510069231.9 申请日: 2005-05-12
公开(公告)号: CN1862817A 公开(公告)日: 2006-11-15
发明(设计)人: 林新富;吴俊沛 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L21/8247;H01L21/8234
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种NOR型快闪记忆体,是由基底、控制闸极、掺杂区、隔离层、隔离结构、浮置闸极、穿隧介电层与闸间介电层所构成。其中,控制闸极以第一方向排列于基底上、掺杂区则以第二方向排列于基底内。隔离层是位于控制闸极与掺杂区之间,隔离结构则在掺杂区及与控制闸极重叠以外的基底中。而浮置闸极位于隔离层之间的基底与控制闸极间、穿隧介电层位于基底与浮置闸极间、闸间介电层位于控制与浮置闸极间。由于控制闸极和掺杂区交错配置,所以可省去连接汲极区的接触窗面积,且能够使讯号传送距离保持相同。
搜索关键词: nor 型快闪 记忆体 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种NOR型快闪记忆体,其特征在于其包括:一基底;多数条控制闸极,以一第一方向排列于该基底上;多数条掺杂区,以一第二方向排列于该基底内;一隔离层,位于该些控制闸极与该些掺杂区之间;多数个隔离结构,位于该些掺杂区及与该些控制闸极重叠以外的该基底中;多数个浮置闸极,位于该隔离层之间的该基底与该些控制闸极之间;多数个穿隧介电层,位于该基底与该些浮置闸极之间;以及多数个闸间介电层,位于该些控制闸极与该些浮置闸极之间。
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