[发明专利]NOR型快闪记忆体及其制造方法有效
申请号: | 200510069231.9 | 申请日: | 2005-05-12 |
公开(公告)号: | CN1862817A | 公开(公告)日: | 2006-11-15 |
发明(设计)人: | 林新富;吴俊沛 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/105 | 分类号: | H01L27/105;H01L21/8247;H01L21/8234 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种NOR型快闪记忆体,是由基底、控制闸极、掺杂区、隔离层、隔离结构、浮置闸极、穿隧介电层与闸间介电层所构成。其中,控制闸极以第一方向排列于基底上、掺杂区则以第二方向排列于基底内。隔离层是位于控制闸极与掺杂区之间,隔离结构则在掺杂区及与控制闸极重叠以外的基底中。而浮置闸极位于隔离层之间的基底与控制闸极间、穿隧介电层位于基底与浮置闸极间、闸间介电层位于控制与浮置闸极间。由于控制闸极和掺杂区交错配置,所以可省去连接汲极区的接触窗面积,且能够使讯号传送距离保持相同。 | ||
搜索关键词: | nor 型快闪 记忆体 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种NOR型快闪记忆体,其特征在于其包括:一基底;多数条控制闸极,以一第一方向排列于该基底上;多数条掺杂区,以一第二方向排列于该基底内;一隔离层,位于该些控制闸极与该些掺杂区之间;多数个隔离结构,位于该些掺杂区及与该些控制闸极重叠以外的该基底中;多数个浮置闸极,位于该隔离层之间的该基底与该些控制闸极之间;多数个穿隧介电层,位于该基底与该些浮置闸极之间;以及多数个闸间介电层,位于该些控制闸极与该些浮置闸极之间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的