[发明专利]正型抗蚀剂组合物无效
| 申请号： | 200510062432.6 | 申请日： | 2005-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN1677235A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 细野隆之;田村弘毅;川名大助;山田知孝 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供掩模线性优异的正型抗蚀剂组合物。该抗蚀剂组合物为含有基础树脂组分(A)、通过曝光产生酸的酸发生剂组分(B)的正型抗蚀剂组合物，所述基础树脂组分(A)是硅树脂，所述酸发生剂组分(B)含有以碳数3或4的全氟烷基磺酸根离子为阴离子的鎓盐类酸发生剂(B1)。 | ||
| 搜索关键词： | 正型抗蚀剂 组合 | ||
【主权项】：
1.一种正型抗蚀剂组合物，其含有基础树脂组分(A)和通过曝光产生酸的酸发生剂组分(B)，其特征在于：所述基础树脂组分(A)是硅树脂，所述酸发生剂组分(B)含有以碳数3或4的全氟烷基磺酸根离子为阴离子的鎓盐类酸发生剂(B1)。
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