[发明专利]宽光谱减反射薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 200510031025.9 | 申请日： | 2005-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN1752275A | 公开（公告）日： | 2006-03-29 |
| 发明（设计）人： | 傅小勇;易葵;王素梅;邵建达;范正修 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/24 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种宽光谱减反射薄膜的制备方法，该方法的实质是采用镀膜机在制备薄膜的过程中不断改变薄膜基片与膜料沉积的倾斜角度并利用膜料的自遮挡效应，一次性地镀制出折射率从基底的折射率变化到空气折射率的渐变折射率的薄膜。实验证明本发明方法制备的渐变折射率的薄膜具有宽光谱减反射的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱 反射 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种宽光谱减反射薄膜的制备方法，其特征在于该方法的实质是采用镀膜机在制备薄膜的过程中不断改变薄膜基片与膜料沉积的倾斜角度并利用膜料的自遮挡效应，一次性地镀制出折射率从基底的折射率变化到空气折射率的渐变折射率的薄膜。
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