[发明专利]分立晶粒垂直结构的LED芯片制备方法有效
申请号: | 200510011135.9 | 申请日: | 2005-01-07 |
公开(公告)号: | CN1801498A | 公开(公告)日: | 2006-07-12 |
发明(设计)人: | 于彤军;秦志新;杨志坚;胡晓东;陈志忠;祁山;陆羽;康香宁;商淑萍;童玉珍;丁晓民;张国义 | 申请(专利权)人: | 北京大学 |
主分类号: | H01L33/00 | 分类号: | H01L33/00 |
代理公司: | 北京君尚知识产权代理事务所 | 代理人: | 俞达成 |
地址: | 100871*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提出了一种高出光效率的管芯形状设计,通过岛状区域LED外延生长,生长分立晶粒LED芯片,激光剥离后将分立的LED芯片封装成上下电极的垂直结构的、具有较高光功率的LED的制备方法。分立晶粒LED外延层,在岛状区域外延生长过程中,由于应力分布的改善,外延层中位错密度减少,晶体质量提高,从而提高了LED内量子效率。设计岛状区域的形状,使生长获得的晶粒几何形状为适合光导出的多边形、圆形,提高LED的光功率。由于岛状区域生长有利于应力的释放,在激光剥离过程中降低GaN和蓝宝石衬底界面处由于激光辐照而产生的应力,减少剥离过程中的损伤,减少剥离前后LED的发光光谱因应力变化而发生移动,以保证剥离衬底而获得高性能的LED。 | ||
搜索关键词: | 分立 晶粒 垂直 结构 led 芯片 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种分立晶粒垂直结构的LED制备方法,具体包括以下步骤:1)在蓝宝石衬底上淀积SiO2,并刻蚀SiO2以限定岛状生长区域和几何形状;2)在刻蚀有SiO2图形的衬底上依次生长n型GaN、LED有源层、p型GaN,外延片还要进行常规的P型激活退火;3)在p-GaN上制备电极和反射层;4)将上述带有P电极LED外延片键合在Si或Cu支撑衬底上,放置在真空室中抽走胶中气泡;5)激光剥离去除蓝宝石衬底;6)在n-GaN面上完成n电极制备;7)分离岛状生长区域为垂直电极结构的LED芯片。
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