[发明专利]氮化钛膜的成膜无效

专利信息
申请号: 200480038982.8 申请日: 2004-12-27
公开(公告)号: CN1898410A 公开(公告)日: 2007-01-17
发明(设计)人: 村上诚志;多田国弘 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: C23C16/34 分类号: C23C16/34;H01L21/28;H01L21/285
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种通过使四氯化钛与氨反应,在基板上形成氮化钛膜的方法,该方法减少底层的腐蚀。通过使四氯化钛与氨在由供给决定速率的区域中反应,一边将底层的腐蚀抑制到最小限度,一边在基板上形成第一氮化钛层。接着,通过使四氯化钛与氨在由反应决定速率的区域中反应,一边确保良好的阶梯覆盖,一边在第一氮化钛层上形成第二氮化钛层。
搜索关键词: 氮化
【主权项】:
1.一种成膜方法,通过使四氯化钛与氨反应,在被处理基板上形成氮化钛膜,其特征在于,具有:通过使所述四氯化钛与所述氨在由供给决定速率的区域中反应,在所述被处理基板上形成第一氮化钛层的第一步骤;和通过使所述四氯化钛与所述氨在由反应决定速率的区域中反应,在所述第一氮化钛层上形成第二氮化钛层的第二步骤。
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