[发明专利]正型抗蚀剂组合物和形成抗蚀图案的方法有效
| 申请号： | 200480026631.5 | 申请日： | 2004-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN1853140A | 公开（公告）日： | 2006-10-25 |
| 发明（设计）人： | 山崎晃义;谷和夫;本池直人;前盛论;吉泽佐智子 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈长会 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种正型抗蚀剂组合物，其包括含有酸可解离的、溶解抑制基团和在酸作用下显示提高的碱溶解度的树脂组分(A)和通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)，其中树脂组分(A)是包含衍生自羟基苯乙烯的第一结构单元(a1)和衍生自具有醇式羟基的(甲基)丙烯酸酯的第二结构单元(a2)的共聚物(A1)，其中已经由酸可解离的、溶解抑制基团保护结构单元(a1)的羟基和结构单元(a2)的醇式羟基的部分；和酸生成剂组分(B)包括重氮甲烷基酸生成剂和鎓盐基酸生成剂；或者该组合物还包含含有至少一种酸可解离的、溶解抑制基团和在由组分(B)生成的酸作用下生成有机羧酸的化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 正型抗蚀剂 组合 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
1.一种正型抗蚀剂组合物，其包括含有酸可解离的、溶解抑制基团和在酸作用下显示提高的碱溶解度的树脂组分(A)和通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)，其中所述的树脂组分(A)是包含衍生自羟基苯乙烯的第一结构单元(a1)和衍生自具有醇式羟基的(甲基)丙烯酸酯的第二结构单元(a2)的共聚物(A1)，其中已经由酸可解离的、溶解抑制基团保护结构单元(a1)的羟基和结构单元(a2)的醇式羟基的部分，和所述的酸生成剂组分(B)包括重氮甲烷基酸生成剂和鎓盐基酸生成剂。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社，未经东京应化工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200480026631.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：影像输入/输出设备的分纸机构
- 下一篇：一种具有负离子功能的电路板
