[发明专利]用于对光谱反射计光信号进行电子空间滤波的方法和系统

摘要

一种用于确定对半导体晶片进行等离子处理的终点的方法，该方法包括以下步骤：提供光源；和提供用于对来自该光源的光进行准直并使其对准半导体晶片的活性表面。多条光检测器光纤交织在多条光源光纤间，这些光源光纤将光从光源传输到透镜系统。来自半导体晶片的活性表面的反射光由多条光检测器光纤接收，并被提供给成像分光计。接收到的反射光由成像分光计进行分析，并与模型光信号进行匹配。选择匹配的光信号以确定等离子处理的终点或其他状态。

主权项

1、一种用于确定对晶片上的晶片表面进行等离子刻蚀操作的终点的方法，该晶片表面具有正被刻蚀的特征部，该方法包括以下步骤：将准直光施加到晶片表面上；对来自晶片表面的反射光进行检测，该反射光是利用多个离散检测区域来检测的，各检测区域被配置成描绘频带上的独特信号；识别所述多个检测区域中的一个检测区域以与模型光信号相关联；以及根据来自所述多个检测区域中的识别出的一个检测区域的反馈，执行等离子刻蚀操作的终点，执行终点是在对晶片表面上的特征部进行刻蚀的过程中进行的。