[发明专利]具有同轴和离轴方位的微机械设备结构有效

专利信息
申请号: 200480018404.8 申请日: 2004-04-27
公开(公告)号: CN1813336A 公开(公告)日: 2006-08-02
发明(设计)人: 约翰·A·吉恩 申请(专利权)人: 模拟器件公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王英
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种微机械多传感器,其提供1个加速度感测轴和2个角速度感测轴。制造所述微机械多传感器的方法包括:在衬底的表面上淀积牺牲材料层或结构材料层。随后利用预定掩膜图案来掩蔽牺牲材料层或结构材料层。使用具有多水平和垂直间距的直线栅格来形成所述预定掩膜图案。所述掩膜图案定义所述传感器设备的功能元件。在所述微机械多传感器具有至少一个其对准和/或宽度是所述传感器设备的性能的关键的第一功能元件的情况下,定义所述关键元件,使得其纵轴基本上平行于所述掩膜的水平轴或垂直轴。在所述微机械多传感器具有至少一个其对准和/或宽度不是所述传感器设备的性能的关键的第二功能元件的情况下,定义所述非关键元件,使得其纵轴不平行于所述掩膜的水平轴或垂直轴。
搜索关键词: 具有 同轴 方位 微机 设备 结构
【主权项】:
1、一种用于在衬底上制造微机械设备的方法,所述微机械设备包括在所述衬底上具有关键物理尺寸或关键对准的至少一个第一元件,以及至少一个非关键第二元件,所述方法包括以下步骤:在所述衬底的表面上淀积至少一个层;使用预定掩膜图案来掩蔽所述淀积层,所述掩膜图案具有与之相关联的相互正交的第一和第二轴,所述掩膜图案用于在所述淀积层上定义与所述设备的第一和第二元件对应的各个区域,与至少一个第一元件对应的所述各个区域具有相关关键轴,该相关关键轴基本上平行于与所述掩膜图案相关联的所述第一或第二轴,以及与至少一个第二元件对应的所述各个区域具有相关非关键轴,该相关非关键轴偏离与所述掩膜图案相关联的所述第一或第二轴;并且蚀刻所述掩膜层,以将所述掩膜图案传递到该层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于模拟器件公司,未经模拟器件公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200480018404.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top