[发明专利]含1,4－二氢吡啶的红外敏感组合物及其生产可成像元件的用途

摘要

(a)至少一种能吸收红外辐射的物质，(b)至少一种能形成自由基的化合物，和(c)至少一种式(I)的 1，4－二氢吡啶衍生物。

主权项

1.引发剂体系，包含(a)至少一种能吸收红外辐射的物质，(b)至少一种能形成自由基的化合物，和(c)至少一种式(I)的1，4-二氢吡啶衍生物其中R¹选自氢原子、-C(O)OR⁷、任选取代的烷基、任选取代的芳基和任选取代的芳烷基，R²和R³独立地选自任选取代的烷基、任选取代的芳基、CN和氢原子，R⁴和R⁵独立地选自-C(O)OR⁷、-C(O)R⁷、-C(O)NR⁸R⁹和CN，或者R²和R⁴一起形成任选取代的苯环或5到7元碳环或杂环，其中单元存在于碳环或杂环中与1，4-二氢吡啶环的5位相邻的位置，其中碳环或杂环任选含有其它的取代基，或者R²和R⁴以及R³和R⁵都形成任选取代的苯环或5到7元碳环或杂环，其中单元存在于碳环或杂环中与二氢吡啶环的3位和5位相邻的位置，其中碳环或杂环任选含有其它的取代基，或者R²/R⁴和R³/R⁵两对中的一对形成5到7元碳环或杂环，其中单元存在于碳环或杂环中与二氢吡啶环的5位和3位相邻的位置，其中碳环或杂环任选含有其它的取代基，另一对形成任选取代的苯环，或者R²和R¹或R³和R¹形成任选包含一个或多个取代基的5到7元杂环，除了其与1，4-二氢吡啶环共用的氮原子外，任选含有其它氮原子、-NR¹³基团、-S-或-O-，R⁶选自任选被卤原子或-C(O)基团取代的烷基、任选取代的芳基、任选取代的芳烷基、任选取代的杂环基团和基团Y是亚烷基或亚芳基，R⁷是氢原子、芳基、芳烷基或烷基，其中烷基和芳烷基的烷基部分任选含有一个或多个C-C双键和/或C-C三键，R⁸和R⁹独立地选自氢原子、任选取代的烷基、任选取代的芳基和任选取代的芳烷基，并且R¹³选自氢原子、烷基、芳基和芳烷基。