[发明专利]沉积室表面增强和最后得到的沉积室无效
申请号: | 200480002054.6 | 申请日: | 2004-01-08 |
公开(公告)号: | CN1798867A | 公开(公告)日: | 2006-07-05 |
发明(设计)人: | G·J·戴德里安;G·S·桑德胡;R·S·丹多;C·M·卡彭特;P·H·坎贝尔 | 申请(专利权)人: | 微米技术股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C14/56 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 周承泽 |
地址: | 美国爱*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 揭示了在基片上沉积薄膜用的装置内的暴露面进行钝化的方法。沉积室和与之相通管道的内表面经钝化处理而阻止了在沉积工艺中反应物和反应产物在所述内表面上的吸附或化学吸附。为此目的而进行的表面钝化处理包括表面处理、衬里、温度调节或它们的组合。还揭示了一种测量温度或温度范围的方法,该温度范围使得表面上反应物和反应产物积聚的量最小。也揭示了在沉积室和气体流通管道内表面钝化的沉积装置。 | ||
搜索关键词: | 沉积 表面 增强 最后 得到 | ||
【主权项】:
1.在至少一种基片上沉积至少一种材料的薄膜的装置,其包括:沉积室,它构建成在其室内接受至少一个基片;以及许多与沉积室相通的管道;其特征在于,当该沉积室在至少一个基片上沉积至少一种材料的薄膜时,该沉积室和许多管道包括暴露在至少一种反应物气体或蒸气中的内表面;以及内表面的至少一部分能抵抗至少一种反应物气体或蒸气在其表面积聚。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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