[实用新型]高分辨力微光学灰度掩模制作装置

摘要

本实用新型公开了一种高分辨力微光学灰度掩模制作装置，该制作装置包括紫外光源、精缩投影组合透镜、空间滤波器、基片和计算机等，特征是还包括光线调制装置。该光线调制装置采用数字微镜器件作为空间光调制器件，并采用两个至三个数字微镜器件组合，实现光强调制细分，实现高分辨力光刻曝光。二次调制结构和叠加调制结构都可以实现高倍数灰阶扩展。因此本实用新型具有：(1)一次可对单个或多个微光学器件一次性面曝光，解决了直写点曝光速度慢的问题；(2)解决了普通图形输出设备分辨率不高的难题；(3)每个像素精缩光点的曝光量不仅仅由曝光时间控制，还可以通过计算机实时数字化调整数字微镜器件像素灰阶控制等优点。

主权项

1、一种高分辨力微光学灰度掩模制作装置，包括紫外光源(1)、扩束准直器(2)、精缩投影组合透镜(7)、空间滤波器(8)、基片(9)、二维精密曝光平台(10)和计算机(4)，其特征在于：还包括光线调制装置。