[实用新型]高分辨力微光学灰度掩模制作装置无效
| 申请号： | 200420022037.6 | 申请日： | 2004-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN2700908Y | 公开（公告）日： | 2005-05-18 |
| 发明（设计）人： | 漆新民;高益庆;谌廷政;吕海宝;罗武胜;朱小进;楚兴春;龚勇清;陈劲松 | 申请（专利权）人： | 南昌航空工业学院;中国人民解放军国防科学技术大学 |
| 主分类号： | G02F1/00 | 分类号： | G02F1/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 江西省专利事务所 | 代理人： | 张静;张文 |
| 地址： | 330034江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 分辨力 微光 灰度 制作 装置 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南昌航空工业学院;中国人民解放军国防科学技术大学，未经南昌航空工业学院;中国人民解放军国防科学技术大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200420022037.6/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：多头刺绣机的打环套筒
- 下一篇：具可侧拆存取模组的电子装置
