[发明专利]处理工件的装置有效
申请号: | 200410098150.7 | 申请日: | 2004-07-15 |
公开(公告)号: | CN1607266A | 公开(公告)日: | 2005-04-20 |
发明(设计)人: | 格雷戈尔·阿诺尔德;安德烈亚斯·吕特林豪斯-亨克尔;于尔根·克莱因;斯特凡·贝勒 | 申请(专利权)人: | 肖特股份公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/513 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 张金熹 |
地址: | 联邦德*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于中空物体例如塑料饮料瓶镀层的装置。本发明的目的是提供一种用于处理工件的装置,该装置操作可靠,且维修费用低,能够灵活地适应用户的需要或所期望的工艺顺序的需要,且该装置允许有效地抽成真空。根据本发明的装置由下面的部件组成:至少一处理装置(101),用于接收至少一工件,转子,所述处理装置安装于其上,流体循环引入装置,用于将至少一流体输送到所述转子上和/或用于从所述转子中排出至少一流体,所述流体循环引入装置具有枢轴和轴套,它们彼此间至少分几部分密封,且所述枢轴可旋转地布置在轴套内。所提出的径向布置特别不易发生故障且花费很少的维修费用。 | ||
搜索关键词: | 处理 工件 装置 | ||
【主权项】:
1.一种处理工件的设备(1),尤其用于在应用流体的条件下对中空物体进行等离子镀层,由下述部分组成:至少一处理装置(101),用于接收至少一工件,转子(32),所述处理装置(101)安装于其上,流体循环引入装置(82,182),用于将至少一流体输送给所述转子(32)和/或用于从所述转子(32)排出至少一流体,所述流体循环引入装置(82,182)具有枢轴(2,102)和轴套(4,104),它们彼此间至少分几部分密封,且所述枢轴(2,102)可旋转地布置在轴套(4,104)内。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的