[发明专利]多阶分离栅极快闪存储器无效
申请号: | 200410092212.3 | 申请日: | 2004-11-03 |
公开(公告)号: | CN1770459A | 公开(公告)日: | 2006-05-10 |
发明(设计)人: | 洪至伟;郭辉宏 | 申请(专利权)人: | 力晶半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;H01L21/8247;G11C16/02 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种多阶分离栅极快闪存储器,此快闪存储器由基底、存储单元列、拟选择栅极、源极区与漏极区所构成。而且,此存储单元列由多个存储单元串连而成,且各个存储单元至少包括堆栈栅极结构与选择栅极。各个存储单元的堆栈栅极结构配置于基底上。选择栅极配置于堆栈栅极结构的一侧壁。拟选择栅极配置于存储单元列的一侧,且与存储单元列最末端的存储单元的堆栈栅极结构侧壁邻接。源极区与漏极区分别配置于拟选择栅极与存储单元列侧边的基底中。 | ||
搜索关键词: | 分离 栅极 闪存 | ||
【主权项】:
1、一种多阶分离栅极快闪存储器,包括:一基底;一存储单元列,配置于该基底上,该存储单元列由多个存储单元串连而成,且各该存储单元包括:一堆栈栅极结构,配置于该基底上,且该堆栈栅极结构从该基底起依序为一穿隧介电层、一浮置栅极、一第一栅间介电层与一控制栅极;一选择栅极,配置于该堆栈栅极结构的一侧壁;一第二栅间介电层,配置于该堆栈栅极结构侧壁与该选择栅极之间;以及一选择栅极介电层,配置于该选择栅极与该基底之间;一拟选择栅极,配置于该存储单元列的一侧,且与该存储单元列最末端的存储单元的堆栈栅极结构侧壁邻接;以及一源极区与一漏极区,分别配置于该拟选择栅极与该存储单元列侧边的该基底中。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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