[发明专利]多阶分离栅极快闪存储器无效

专利信息
申请号: 200410092212.3 申请日: 2004-11-03
公开(公告)号: CN1770459A 公开(公告)日: 2006-05-10
发明(设计)人: 洪至伟;郭辉宏 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司
主分类号: H01L27/115 分类号: H01L27/115;H01L21/8247;G11C16/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种多阶分离栅极快闪存储器,此快闪存储器由基底、存储单元列、拟选择栅极、源极区与漏极区所构成。而且,此存储单元列由多个存储单元串连而成,且各个存储单元至少包括堆栈栅极结构与选择栅极。各个存储单元的堆栈栅极结构配置于基底上。选择栅极配置于堆栈栅极结构的一侧壁。拟选择栅极配置于存储单元列的一侧,且与存储单元列最末端的存储单元的堆栈栅极结构侧壁邻接。源极区与漏极区分别配置于拟选择栅极与存储单元列侧边的基底中。
搜索关键词: 分离 栅极 闪存
【主权项】:
1、一种多阶分离栅极快闪存储器,包括:一基底;一存储单元列,配置于该基底上,该存储单元列由多个存储单元串连而成,且各该存储单元包括:一堆栈栅极结构,配置于该基底上,且该堆栈栅极结构从该基底起依序为一穿隧介电层、一浮置栅极、一第一栅间介电层与一控制栅极;一选择栅极,配置于该堆栈栅极结构的一侧壁;一第二栅间介电层,配置于该堆栈栅极结构侧壁与该选择栅极之间;以及一选择栅极介电层,配置于该选择栅极与该基底之间;一拟选择栅极,配置于该存储单元列的一侧,且与该存储单元列最末端的存储单元的堆栈栅极结构侧壁邻接;以及一源极区与一漏极区,分别配置于该拟选择栅极与该存储单元列侧边的该基底中。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于力晶半导体股份有限公司,未经力晶半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410092212.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top