[发明专利]低应力、抗磨减摩梯度Ni-Co纳米合金镀层的制备方法无效

专利信息
申请号: 200410090215.3 申请日: 2004-10-26
公开(公告)号: CN1766173A 公开(公告)日: 2006-05-03
发明(设计)人: 徐洮;王立平;薛群基 申请(专利权)人: 中国科学院兰州化学物理研究所
主分类号: C25D3/56 分类号: C25D3/56
代理公司: 兰州中科华西专利代理有限公司 代理人: 方晓佳
地址: 730000甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种低应力、抗磨减摩梯度Ni-Co纳米合金镀层的制备方法。主要是针对目前制备的厚层纳米合金镀层内应力大、结合强度低、抗磨减摩性能差等问题而发明的。本发明采用电沉积方法,在含硫酸镍和氯化钴的基础电解液中,通过逐渐增加电解液中钴盐的浓度和控制相应的电沉积时间制备出结构致密,表面平整,与底材结合牢固,钴含量呈明显梯度变化的梯度Ni-Co纳米合金镀层。其优点在于制备出的梯度合金镀层所具有的成分和结构梯度有效地降低了厚镀层的内应力,表现出优异的抗磨和减摩性能。因此适用于同时要求高耐磨和良好减摩性的部件,同时有望应用于精密合金电铸生产。
搜索关键词: 应力 抗磨减摩 梯度 ni co 纳米 合金 镀层 制备 方法
【主权项】:
1、一种低应力、抗磨减摩梯度Ni-Co纳米合金镀层的制备方法,其特征在于采用电沉积法制备,电解液由硫酸镍,氯化钠,硼酸,氯化钴和糖精酸钠组成;电沉积时纯镍片为阳极,将经过常规镀前预处理后的钢铁、铜金属工件作阴极,控制施镀温度在40~45℃,镀液PH值3~4.5,电流密度3~5A/dm2;沉积过程中通过逐渐增加电解液中氯化钴的浓度和控制相应的沉积时间:电解液中氯化钴浓度(g/L) 电沉积时间(min)0 302 3010 3020 3040 3080 90即可一次性沉积出厚度超过150μm的梯度Ni-Co纳米合金镀层。
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