[发明专利]薄膜晶体管阵列面板有效
申请号: | 200410080736.0 | 申请日: | 2004-10-08 |
公开(公告)号: | CN1606161A | 公开(公告)日: | 2005-04-13 |
发明(设计)人: | 权恩美;申爱;白承洙;卓英美 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L21/77;G02F1/136 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 余刚;彭焱 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种薄膜晶体管阵列面板,其包括:绝缘基片;栅极线,形成于绝缘基片上,并具有栅极;第一及第二存储电极线,位于相邻的栅极线之间,沿栅极线平行方向延伸;多个存储电极,电连接第一及第二存储电极线;栅极绝缘层,覆盖栅极线、存储电极线、及存储电极;半导体层,形成于栅极绝缘层上;数据线,具有与半导体层至少一部分重叠的源极和与栅极线交叉的交叉部分及具有与交叉部分连接并以规定角度弯曲部分;漏极,以栅极为中心与源极面对、与半导体层至少一部分重叠;钝化层,覆盖半导体层;像素电极,形成于钝化层上并与漏极电连接;存储电极连接桥,形成于钝化层上,与栅极线交叉,电连接相邻像素的存储电极线。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 阵列 面板 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜晶体管阵列面板,包括:绝缘基片;栅极线,形成于所述绝缘基片上,并具有栅极;第一及第二存储电极线,位于相邻的所述栅极线之间,沿所述栅极线平行方向延伸;多个存储电极,电连接所述第一及第二存储电极线;栅极绝缘层,覆盖所述栅极线、所述存储电极线、及所述存储电极;半导体层,形成于所述栅极绝缘层上;数据线,具有与所述半导体层至少一部分重叠的源极和与所述栅极线交叉的交叉部分及具有与所述交叉部分连接并以规定角度弯曲部分;漏极,以所述栅极为中心与所述源极面对、与所述半导体层至少一部分重叠;钝化层,覆盖所述半导体层;像素电极,形成于所述钝化层上并与所述漏极电连接;以及存储电极连接桥,形成于所述钝化层上,与所述栅极线交叉,电连接相邻像素的所述存储电极线。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410080736.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的