[发明专利]用于测量镀覆的衬底的光学性质的测量装置无效
申请号: | 200410075195.2 | 申请日: | 2004-09-02 |
公开(公告)号: | CN1699964A | 公开(公告)日: | 2005-11-23 |
发明(设计)人: | 汉斯-格奥尔格·洛茨;彼得·索尔;斯特凡·海因;彼得·斯库克 | 申请(专利权)人: | 应用薄膜有限公司 |
主分类号: | G01N21/00 | 分类号: | G01N21/00;G01N21/17 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 车文;顾红霞 |
地址: | 联邦德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种测量装置,其包括几个依次设置的镀覆腔,用于测量镀覆的衬底的光学性质。这些镀覆腔相互之间被隔离壁隔开,隔离壁的自由端安装在靠近衬底的上方。衬底最好是连续的薄膜。通过在各个镀覆腔之间测量衬底的反射、透射等,使得在仅仅部分完成的层系统中实现测量成为可能。这就实现了对镀覆过程的技术操作进行控制的优点。 | ||
搜索关键词: | 用于 测量 镀覆 衬底 光学 性质 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于测量在镀覆装置内的镀覆的衬底的光学性质的测量装置,所述镀覆装置包括几个依次设置的镀覆腔,这些镀覆腔之间设有隔离壁,隔离壁的自由端安装在靠近衬底的上方,衬底从一个腔传送到另一个腔,其特征在于,测量装置(65,66,67)安装在隔离壁(18-23)的自由端(49-54)上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用薄膜有限公司,未经应用薄膜有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200410075195.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。