[发明专利]基板的处理装置和处理方法有效
| 申请号： | 200410064062.5 | 申请日： | 2004-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN1576961A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | 矶明典;西部幸伸;和歌月尊彦 | 申请（专利权）人： | 芝浦机械电子株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13;G03F7/00;B05B1/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 胡建新 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种处理装置，能够利用处理液，均匀地处理在竖立状态下进行搬运的基板。在利用处理液处理基板的处理装置中，具有在竖立状态下向规定方向搬运基板的搬运装置和向在竖立状态下利用该搬运装置搬运的基板喷射处理液的蚀刻处理部(18)，该蚀刻处理部具有多个向基板的板面喷射处理液的喷嘴(21a～21d)，这些多个喷嘴按规定间隔配置在基板的高度方向上，并且，位于高度方向上方的喷嘴比位于下方的喷嘴处在基板的搬运方向后方的位置上。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基板的处理装置，利用处理液处理基板，其特征在于，具有：搬运装置，在竖立状态下向规定方向搬运上述基板；及处理部，向利用该搬运装置在竖立状态下搬运的基板喷射处理液；上述处理部具有向上述基板的板面喷射处理液的多个喷嘴，这些多个喷嘴按规定间隔配置在上述基板的高度方向上，并且，位于高度方向上方的喷嘴比位于下方的喷嘴处在上述基板的搬运方向的后方。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芝浦机械电子株式会社，未经芝浦机械电子株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200410064062.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：车辆显示设备
- 下一篇：一种兼做电梯排风通道的间接照明系统
