[发明专利]一种光学透明的有序介孔氧化硅单块的制备方法无效
| 申请号： | 200410061428.3 | 申请日： | 2004-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN1654325A | 公开（公告）日： | 2005-08-17 |
| 发明（设计）人： | 雷家珩;刘丹;郭丽萍;赵俊;巫辉 | 申请（专利权）人： | 武汉理工大学 |
| 主分类号： | C01B33/18 | 分类号： | C01B33/18;B01J21/08 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 | 代理人： | 唐万荣 |
| 地址： | 430070湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种有序介孔氧化硅单块的制备方法。一种光学透明的有序介孔氧化硅单块的制备方法，其特征是步骤如下：1).选取物料：按质量比为：非离子型表面活性剂∶盐酸∶正硅酸甲酯＝0.5～2∶1∶1～4，其中，盐酸的pH＝0.5～2；2).将非离子型表面活性剂、正硅酸甲酯、盐酸溶液混和，搅拌均匀；3).抽真空5～20分钟得到具有溶致液晶特征的溶胶；4).将溶胶置于水热釜中凝胶后，用去离子水或者酸、碱或盐溶液在60～120℃水热处理凝胶12～72h，并用乙醇或异丙醇作为萃取剂萃取除去表面活性剂；5).最后在40～110℃下加热干燥10～48h后得到光学透明的有序介孔氧化硅单块。本发明加工周期短、程序简单、重复性好、且不需要特殊的设备。制备的介孔氧化硅单块可望用于催化、分离、特别是光学功能材料等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 透明 有序 氧化 硅单块 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学透明的有序介孔氧化硅单块的制备方法，其特征是步骤如下：1).选取物料：按质量比为：非离子型表面活性剂∶盐酸∶正硅酸甲酯＝0.5～2∶1∶1～4，其中，盐酸的pH＝0.5～2；2).将非离子型表面活性剂、正硅酸甲酯、盐酸溶液混和，搅拌均匀；3).抽真空5～20分钟得到具有溶致液晶特征的溶胶；4).将溶胶置于水热釜中凝胶后，用去离子水或者酸、碱或盐溶液在60～120℃水热处理凝胶12～72h，并用乙醇或异丙醇作为萃取剂萃取除去表面活性剂；5).最后在40～110℃下加热干燥10～48h后得到光学透明的有序介孔氧化硅单块。
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