[发明专利]芯片封装中的磁性材料底部填充方法无效
申请号: | 200410052865.9 | 申请日: | 2004-07-15 |
公开(公告)号: | CN1588633A | 公开(公告)日: | 2005-03-02 |
发明(设计)人: | 叶献方;丁汉 | 申请(专利权)人: | 上海交通大学 |
主分类号: | H01L21/54 | 分类号: | H01L21/54;H01L21/56 |
代理公司: | 上海交达专利事务所 | 代理人: | 毛翠莹 |
地址: | 200240*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种芯片封装中的磁性材料底部填充方法,采用的填充材料中,以磁性微粉材料部分代替SiO2,在电磁扫描机构的一个扫描轴上安装一个电磁激励头,并将电磁激励头置于芯片的上方或者基底的下方,在滴胶填充过程中施加外部电磁力,激励电磁激励头始终处于填充材料的前沿位置沿着滴胶的方向扫描,引导磁性有机材料进行填充。本发明磁性填充材料制备容易,扫描机构简单,易于嵌入现有封装生产线,采用外部电磁力作用,使填充时间显著减少,不仅提高了封装效率,还能有效避免填充缺陷,提高器件可靠性。 | ||
搜索关键词: | 芯片 封装 中的 磁性材料 底部 填充 方法 | ||
【主权项】:
1、一种芯片封装中的磁性材料底部填充方法,其特征在于包括如下步骤:1)在主要成分为环氧树脂与SiO2的常规流动填充材料的基础上,以磁性微粉材料部分取代SiO2,得到的磁性填充复合材料中,磁性微粉材料的重量百分比为30~60%;2)将电磁激励头(1)通过激励头架(6)固定在电磁扫描机构中的一个扫描轴上,并将电磁激励头(1)置于芯片(2)的正上方或基底(3)的正下方,使激励头(1)靠近待填充空间而不接触芯片(2)或基底(3);3)采用滴胶装置沿芯片的某个选定的边均匀滴胶,环境温度维持在60℃~80℃;4)在滴胶的同时,接通电磁扫描机构的电源,使电磁激励头(1)产生电磁场,电流频率为50Hz~1KHz,在填充过程中,电磁激励头(1)始终处于填充材料的前沿位置且运动方向与芯片选定的滴胶边平行,通过逐行扫描实现磁性复合材料的完全填充。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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