[发明专利]用于分析测量电容的方法和电路装置有效

专利信息
申请号: 200410042113.4 申请日: 2004-04-30
公开(公告)号: CN1576861A 公开(公告)日: 2005-02-09
发明(设计)人: M·梅勒特;J·费希特;H·奥贝特 申请(专利权)人: 维加·格里沙伯股份公司
主分类号: G01R27/26 分类号: G01R27/26
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 程天正;张志醒
地址: 德国沃*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明涉及一种用于分析测量装置的测量电容(CM)的方法,其具有以下步骤:经第一充电时间(tk1,tk2)对所述电容(CM)充电,以及确定所述电容的电荷以作为第一个测量值(tm1)。为确定改变所述电容的基本状态的测量条件、例如相对于测量单元的干燥环境的潮湿环境,本发明具有下列附加的步骤:经不同于所述第一充电时间的第二充电时间(tk2)对所述电容(CM)充电,确定所述电容(CM)的电荷以作为第二个测量值(tm2),以及将所述第一和第二测量值(tk1,tk2)进行相互比较以确定比较结果(Δtm)。
搜索关键词: 用于 分析 测量 电容 方法 电路 装置
【主权项】:
1.用于分析测量装置的测量电容(CM)的方法,具有以下步骤:-经过第一充电时间(tk1,tk2)对所述电容(CM)进行充电,-确定所述电容的电荷以作为第一个测量值(tm1),其特征在于下列附加的步骤:-经过不同于第一充电时间(tk1)的第二充电时间(tk2)对所述电容(CM)进行充电,-确定所述电容(CM)的电荷以作为第二个测量值(tm2),以及-为确定比较结果(Δtm),将第一个和第二个测量值(tk1,tk2)进行相互比较,以便确定改变所述电容(CM)的基本状态的测量条件。
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