[发明专利]淀积膜形成方法以及装置有效
申请号: | 200410036692.1 | 申请日: | 2004-04-28 |
公开(公告)号: | CN1550574A | 公开(公告)日: | 2004-12-01 |
发明(设计)人: | 片桐宏之;白砂寿康;松冈秀彰 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供使圆柱形支撑体平滑地旋转,滑动特性良好,抗腐蚀以及耐久性高,电子照相特性的不均匀少的淀积膜的形成方法以及装置,本方法在能够减压的反应容器内设置圆柱形支撑体,通过旋转单元使上述圆柱形支撑体旋转,使用淀积膜形成用原料气体导入单元,在上述反应容器内导入原料气体,把上述圆柱形支撑体加热,施加用于激励上述原料气体的放电能量,把上述反应容器内排气的同时通过等离子体CVD法形成淀积膜,使用具备了非旋转部分的滑动面的至少一部分由固体润滑材料构成的滑动构件的上述旋转单元。 | ||
搜索关键词: | 淀积膜 形成 方法 以及 装置 | ||
【主权项】:
1.一种淀积膜形成方法,该方法在能够减压的反应容器内设置圆柱形支撑体,使上述圆柱形支撑体旋转,使用淀积膜形成用原料气体导入单元,在上述反应容器内导入原料气体,把上述圆柱形支撑体加热,施加用于激励上述原料气体的放电能量,对上述反应容器内进行排气的同时通过等离子体CVD法形成淀积膜,其特征在于:使用具备非旋转部分的旋转单元进行上述圆柱形支撑体的旋转,上述非旋转部分包括至少具有滑动面部分的滑动构件,而且上述滑动面部分的至少一部分由固体润滑材料形成。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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