[发明专利]制作金属相片的方法无效
| 申请号： | 200410033326.0 | 申请日： | 2004-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN1677232A | 公开（公告）日： | 2005-10-05 |
| 发明（设计）人： | 陈怡礽;赖志辉;周天佑;陈怡发;王元宏;巫诺文;颜国雄;杨智成;许传伦;马伟植;庄宏隆 | 申请（专利权）人： | 钰德科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G03F7/20;C25D3/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种制作金属相片的方法。首先提供一基板，并于该基板上涂布一光致抗蚀剂层，接着利用一具有一图像的光掩模来进行一曝光暨显影制造工艺，以图案化该光致抗蚀剂层，最后再利用微机电LIGA技术于该基板以及该光致抗蚀剂图案上形成一薄膜层，且该薄膜层表面具有一相对应于该光掩模的图像。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 金属 相片 方法 | ||
【主权项】：
1.一种制作金属相片的方法，该方法包括有下列步骤：提供一基板，并于该基板上涂布一光致抗蚀剂层；利用一具有一图像的底片，并利用该底片作为一光掩模来进行一曝光暨显影制造工艺，以图案化该光致抗蚀剂层而形成一与该底片具有相对应图像的一光致抗蚀剂图案；以及于该基板与该光致抗蚀剂图案上形成种层；以及利用一镀膜技术于该种层上形成一金属层，完成该金属相片的制作。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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