[发明专利]能够运载处理对象进入并离开真空室的真空处理系统无效
| 申请号： | 200410030487.4 | 申请日： | 2004-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN1532886A | 公开（公告）日： | 2004-09-29 |
| 发明（设计）人： | 玉井忠素 | 申请（专利权）人： | 玉井忠素 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01L21/265 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 张金熹 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 第一和第二加载锁定机构安装在一个真空室内。一个外臂以及第一和第二机械臂安置在所述真空室的外面。所述外臂能够保持处理对象，并可以将所保持的处理对象送入第一加载锁定机构或送入第二加载锁定机构。所述第一机械臂可以在真空室外面的供应位置和第一加载锁定机构之间以及在所述供应位置和所述外臂之间传递所述处理对象。所述第二机械臂可以在所述供应位置和第二加载锁定机构之间以及在所述供应位置和所述外臂之间传递所述处理对象。 | ||
| 搜索关键词： | 能够 运载 处理 对象 进入 离开 真空 系统 | ||
【主权项】：
1.一种真空处理系统包括：一个真空室，用于限定一个能够被抽成真空的内室；一个第一加载锁定机构，能够将一个处理对象送入或运出保持真空状态的所述真空室；一个第二加载锁定机构，能够将一个处理对象送入或运出保持真空状态的所述真空室；一个外臂，安置在所述真空室的外面，且能够保持所述待处理的对象，并将所保持的处理对象送入第一加载锁定机构或送入第二加载锁定机构；一个第一机械臂，安置在所述真空室的外面，且能够在真空室外面的供应位置和第一加载锁定机构之间以及在所述供应位置和所述外臂之间传递所述处理对象；以及一个第二机械臂，安置在所述真空室的外面，且能够在所述供应位置和第二加载锁定机构之间以及在所述供应位置和所述外臂之间传递所述处理对象。
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